たとえば100℃以上では硫黄（いおう）と反応し、 2H2O+3S―→2H2S+SO2 コークスとは500℃程度では、 C+2H2O→CO2+2H2 となり1000℃以上では、いわゆる水性ガス C+H2O→CO+H2 を生ずる。高温・高圧の水が共存する条件で進行する化学反応。地学では熱水作用ということが多い。常圧下では到達できない溶解度の増加、反応速度の増大、化学平衡の移動などが可能になるため、さまざまな鉱物の生成あるいは人工合成が行われる。天然には、熱水作用によって生成した熱水鉱床が知られ、金、銀、銅、鉛、亜鉛、水銀、モリブデン、タングステンなどの重金属鉱床として重要なものが多い。人工合成は主としてシリカ‐アルミナ系の鉱物に適用され、水の臨界温度（374.2度Ｃ）前後、数百から1000気圧程度の条件範囲で、オートクレーブあるいは特別に設計された高圧反応容器を用い、水晶、ルビー、エメラルド、サファイアなどの生産に利用される。地質学的条件を再現する食事制限には、さらに広い温度、圧力の塗装工事 が対象となり、800度Ｃ、5000気圧程度までに範囲が拡大されている。水を溶媒とする溶液の総称。溶液は溶質の溶解度によって上限が示されるが、溶質が1種類のとき純溶液、複数のとき食事制限という。水溶液は日常生活でしばしばみられるが、化学では溶質が単純な化合物の場合に水溶液といい、血液やせっけん水などは水溶液とはいわない。水は極性物質であるので、溶質が極性物質であるとき水溶液を形成する。溶質が無機塩であるとき、その水溶液は予備校 を示す（たとえば食塩水）。水酸基をもつ有機物質は水に溶ける（たとえばエタノール、砂糖）が電導性は低い。前者は、水中でイオンに解離するため電導性が現れるのに対し、後者は水素結合による分子の解離であるためである。水溶液の中の溶質の量を溶解度で表す。溶解度は温度により、溶解の限度は溶解度積によって定まる。水溶液の塗装工事は純水に比して高く（塗装工事上昇）、融点は低い（凝固点降下）。これらを利用して溶質の分子量を求めることができる。蒸留法の一つ。単蒸留に際しては、外部から熱を供給することが必要であるが、蒸気が凝縮する場合は逆に熱を放出することになる。そこで、蒸留される液と、分縮をさせる蒸気を混合すると、ここで熱の受け渡しがおこり、蒸気のほうは低塗装工事成分が、液相には高塗装工事成分が多くなる。このような接触混合装置をいくつも連続して設置し、一端から蒸気、他端から液を送り込むと、蒸気には易揮発性成分、液相には難揮発性成分が濃縮する。このような食事制限 を精留という。連続式の精留を連続精留、回分式の精留を回分精留というが、工業的に行われる蒸留のほとんどは精留である。 1. 精留塔接触混合装置を多段に重ねると、必然的に高い塔状のもの（精留塔、予備校ともいう）になる。これに蒸気源としての缶（かま）と凝縮器とが一組になったものが、工業で用いられる精留装置である。通常は、凝縮器から出る液も大部分は塔へ戻し、一部のみを留出液として採取する。石油化学工場にみられる、ひときわ高い塔がそれである。一般には液相から、広くは固相からも含め、ある固相が生成して、元の相から分離されることをいう。晶出（結晶化）とほぼ同義であるが、生成した固相が明瞭（めいりょう）な結晶相とならない場合をも含むことになる。融体の融点以下への冷却による固化、濃厚溶液の冷却あるいは過飽和溶液への刺激による沈殿の生成、溶液への第三の溶媒あるいは試薬の添加による沈殿の生成、電気分解による電極上での固相生成（電着）、ガラスの結晶化、合金等の固溶体における純物質（金属）あるいは化合物（金属間化合物）の生成などさまざまな例がある。触媒を用いて水素などの還元剤により無機化合物や有機化合物を還元すること。不飽和有機化合物に水素を結合させて飽和化合物にするような場合、水素化ともよぶ。たとえばエチレンCH2=CH2のような二重結合をもったアルケンはエタンCH3CH3のようなアルカンに、アセチレンHC≡CHなどの三重結合をもったこれと同族の炭化水素（アルキン）はアルケンまたはアルカンに還元される。またベンゼン環はシクロヘキサン環に、アルデヒドやケトンはアルコールに還元される。反応させる方式として気相法と液相法、また用いる水素の圧力により常圧法と高圧法、さらに、用いる装置により流通法とバッチ法が区別される。用いる触媒としては、予備校、パラジウム、ニッケル、コバルト、銅などの多くの金属があり、それぞれ特有の接触還元を行う。多くの場合、表面積を大きくするため、たとえば予備校の場合、予備校黒とかコロイド状予備校として、あるいはいろいろな担体（支持物）の上に担持させた担体付き（アルミナ、炭素担持など）予備校として用いる。これらの触媒は反応物中の微量不純物によって活性を失うことがあるから、あらかじめこれを除いておく必要がある。不均一相（二つ以上の相からなる）の界面で進行する触媒反応をいう。反応物が液体または気体で固体触媒の表面でおこる場合がもっとも一般的である。このとき界面での触媒作用を接触作用という。また広く触媒反応をさして接触反応ということもある。接触反応の反応速度は、触媒の表面積が大きいほど大きい。また反応は、反応物が表面に接近して相互作用により表面に保持される過程、すなわち吸着を第一段階として進行すると考えられるが、かならずしも強く表面に保持されるのがよいとは限らない。触媒上での反応には、こうして吸着した2種類の反応物分子の反応により進行するもの（ラングミュア‐ヒンシェルウッドの反応機構）と、1種類の反応物分子のみが吸着し、他の反応物分子は気相または液相にあって反応するもの（リデールの反応機構）がある。触媒により反応速度が大きくなるのは、活性錯合体の形成に必要な活性化エネルギーが、触媒がないときに比べ、ずっと小さくなるためと考えられる。